中国60年代光刻机

发布时间：2024-09-21 12:28
下面围绕“中国60年代光刻机”主题解决网友的困惑

我们国家有大批科研人员,为什么不能制造出光刻机?

从20世纪60年代初开始，中国就有半导体公司发明了芯片蚀刻技术，拉开了光刻机发展的序幕。随后，经过37年的发展，荷...

全球最强的光刻机为何出在荷兰,而不是美国日本德国?

早期的光刻机出现在60到70年代，那时候的制程工艺远没有今天这么强大，光刻机的技术要求也相对较低，大多数搞半导体的公司，自己稍微加把劲都能做出来。在日本半导...

高端光刻机为什么难“买”又难“造”?

已造出就会被国内和国外买,造出高端光刻机的企业也能赚来大钱,特别是,让本国的高端芯片制造企业在核心工艺设备上不可能再被美国和荷兰联合起来卡脖子了,在其它工艺...

执着创芯六十年上世纪五十年代王守武不负党和国家的

为了促进我国第二代(晶体管型)电子计算机的研究,在王守武等的组织领导下,1958年,我国最早的一家生产晶体管的工厂中国科学院109厂创立,从事锗高频晶体管的批量生产...

为什么只有荷兰能制造最先进的光刻机,而美国不行?

为什么最顶尖的光刻机是来自荷兰，而不是美国？20世纪60-70年代，光刻机的早期发展阶段，美国是走在世界前面的。那时的光刻机原理很简单，就是把光通过带电路图的...

芯片为半导体材料,为什么以前收音机也叫半导体?

芯片制作工艺及过程非常复杂,高端光刻机我国还是落后荷兰ASML很多,特别是DUV光刻机我国目前技术也就是28纳米,与国外的5纳米距离太大。 芯片的主要原材料是单晶硅,...

国产芯片与美国芯片的差距在哪儿,最快多久才能赶超?

不要老是盯着光刻机,国产芯和美国芯的真正差距还是在专利和标准上! 许多人认为中国的芯片制造工艺不行,的确目前国产的光刻机只能达到90nm的精确度,国内最好的芯片...

“卡脖子”技术的突破:中国微电子技术微米级台阶的跨越_返

1985年的巴统禁运手册规定(见图1):生产或测试电子产品的设备中,5微米以下的光刻机对中国是严格禁运的(IL1355);电子产品和相关技术中,4K容量DRAM(特征尺寸5微米...

何祚庥院士晚年不甘寂寞,反中医没人管

很多人以为我们做不了光刻机，1977年，我国最早的光刻机-GK-3型半自动光刻机诞生；1982年，KHA-75-1光刻机诞生；198...

在经济不景气的形势下,为何这些公司却能闷声发大财?

最早的光刻机采用接触式曝光,掩模直接贴在晶圆片上来进行曝光,容易有制程污染与掩模寿命问题;后来的接近式光刻机,利用气垫在掩模和硅片之间制造微小空隙,但也影响...

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